消息称三星将于 2025 年初从 ASML 引进 High-NA EUV 光刻机
2024 年 10 月 30 日

三星电子计划从 ASML 引进首台 High-NA EUV 光刻机 EXE:5000,预计 2025 年初到货,最快 2025 年中旬开始运行。该光刻机为先进制程所需设备,韩国业界预期三星将启动 1 纳米芯片的商用化进程。

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