市场监管总局批准新建二维线纹基准装置，填补国内光学精密测量设备和高精度光刻机母版制造设备的二维线纹标准器测量能力空白，实现核心技术自主可控。该装置测量范围 320mm×320mm，最优测量不确定度 28nm，达到国际先进水平，可为二维尺寸、位置及形状提供量值溯源，解决亚微米、纳米级光刻机母版的二维线纹测量难题，为高端制造领域提供技术支撑。