据三星公司称，三星继承人李在镕称，该公司计划采用正在开发的最新 3 纳米全栅极 (GAA) 工艺技术来制造尖端芯片，并提供给全球客户 … 该公司表示，与 5 纳米工艺相比，3 纳米 GAA 技术的逻辑面积效率提高了 35% 以上，功耗降低了 50%，性能提高了约 30%。