三星采用极紫外光刻技术生产存储芯片
2020 年 3 月 26 日

三星周三宣布,已经在首尔华盛市的一家 DRAM 工厂的一条生产线上部署了极紫外光刻技术(EUV),将精密内存芯片制造的生产率提高一倍。三星是第一个将这项技术用于大规模生产存储芯片的公司,这是 20 年来生产技术的首次重新设计。

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