苹果新专利革新 Face ID:元件体积更小、成本更低、精度更高
5 月 29 日

苹果获批新专利,涉及下一代 Face ID 技术,采用超表面光学元件(MOE)替代传统衍射光学元件(DOE),集成光束分割与准直功能,缩小模组体积、降低成本并提升组装精度。同时,MOE 可优化光轴倾斜角度,增强 3D 映射精准度,并支持点状照明与泛光照明切换以适应不同场景。

专业版功能专业版功能
登录
体验专业版特色功能,拓展更丰富、更全面的相关内容。

行业标签

二维码

更多体验

前往小程序

二维码

24 小时

资讯推送

进群体验

logo
科技新闻,每天 3 分钟