三星电子计划投资 1.1 万亿韩元引进最新的 High-NA EUV 光刻机

三星电子计划投入约 1.1 万亿韩元引进两台最新的 High-NA 双级极紫外（EUV）光刻机，此前仅在京畿道园区引进过一台用于研发的该设备，此次引进的将用于「产品量产」，计划年内引进一台，明年上半年再引进一台。